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LINDEN SISTEMA NACIONAL DE LABORATÓRIOS EM NANOTECNOLOGIAS SiSNANO – UFSC INTERDISCIPLINARY LABORATORY FOR NANOSTRUCTURE DEVELOPMENT Prof. César Vitório Franco Director of LINDEN
| Date post: | 14-Jul-2015 |
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LINDEN
SISTEMA NACIONAL DE LABORATÓRIOS EM NANOTECNOLOGIAS
SiSNANO – UFSC
INTERDISCIPLINARY LABORATORY FOR NANOSTRUCTURE DEVELOPMENT
Prof. César Vitório Franco Director of LINDEN
SiSNANO/MCTI SISTEMA NACIONAL DE LABORATÓRIOS
EM NANOTECNOLOGIAS
Portaria MCTI nº 245, de 05/04/2012 e Instrução NormaJva nº 2 de 15/06/2012
SiSNANO at UFSC is LINDEN LABORATORIO INTERDISCIPLINAR DO
DESENVOLVIMENTO DE NANOESTRUTURAS
Prof. César Vitório Franco Director Prof. André A. Pasa Vice Director
LINDEN – Governance and Management ComiDee
• Profa. Elenara Lemos Senna.
• Prof. Ricardo A. F. Machado
• Prof. Philipi J. P. Gleize
• Prof. Aloisio N. Klein
• Dachamir Hotza
Coordenador: Prof. César Vitório Franco Vice Coordenador: Prof. André A. Pasa
LINDEN – Coordinator e vice Coordinator
LINDEN – The Technical and ScienQfic Structure and organizaQon chart
Reasearches of SisNano/ UFSC apointed by rector office.
LIDEN will become bound to the Pró-‐Reitoria de Pesquisa with a coordinator a vice coordinator and Governance and Management CommiZee formed by 5 members
SisNANO – Laboratories with open access to the ICT’s
Strategics Associates
SisNANO – CharacterisQc and InclinaQon
SisNano is aimed to:
SJmulate and support the industrial development of nanotechnology products and process.
Building and extending the state of art of R&D in nanotechnology.
SupporJng the internaJonal collaboraJon to nanotechnology community
Training in nanotechnology.
Spreading nanotechnology in society and market
MCTI CONCEPT BEHIND SsiNANO
Requirements for the Associated labs
Lab/research line 1
Lab/research line 3
Lab/research line 2
Lab/research line 4
LINDEN is implemented by Associated labs
The face of LINDEN as implemented by Associated Laboratories: They must be gathering to pooling their effort in a common vocaQonal skills and competence
(i) COMPETENCE AND PART OF API – NANO
(ii) INFRA STRUCTURE AND
FACILITIES
(iii) ACADADEMIC EXPERTIZE, TRADITION
IN INOVATION, TECHNOLOGY
TRANSFER, SOLID ACQUAINTACE IN
INDUSTRIAL ACTIVITIES
LINDEN (ILND)
LABORATORIO INTERDISCIPLINAR DO DESENVOLVIMENTO DE NANOESTRUTURAS
LABMAT, LCP, NanotecLab, Polimat, LabSiN, LCME, LaCBio e Lab. Farmacotécnica
TOTAL OF EIGHT ASSOCIATED LABORATORIES
WITH HIGH MATURITY AND CONSOLIDATION
INTERDISCIPLINARY LABORATORY FOR NANOSTRUCTURED DEVELOPMENT
• LINDEN will occupy 2 floors out of 8 at the InsJtuto MulJdisciplinar de Engenharias de Superhcie – IMES
(InsJtute of MulJdisciplinar Surface Engenieering – IMS) to be ready by the 2014 Total of funding for the next 5 years R$ 25 millions from MCTI
AcJng closely with processing of nano structured surfaces LINDEN will tackle a new approach to leverage the innovaJon among tradiJonal companies and start-‐ups in
nanotechnology allowing external users of 15% or more of the UFSC academic faciliJes in nanotechnology associated at SISNANO -‐ UFSC.
LINDEN is mirroring its structure from the LCME large experience and organizaJon
ASSOCIATES INTERDISCIPLINARY LABORATORIES
FOR NANOSTRUCTURED DEVELOPMENT
LABORATORIO CENTRAL DE MICROSCOPIA ELETRONICA
LCME
FUNDING PROVIDED BY MINISTRY OF SCIENCE,
TECHNOLOGY AND INOVATION -‐ MCTI
JEOL JSM-‐6701F Scanning Electron (FESEM) JEOL JSM-‐6390LV Scanning Electron JEM-‐1011 TEM JEM-‐2100 TEM Leica DMI6000 B Microscope
Laboratório Central de Microscopia Eletrônica
Equipamentos de Análise: JEM-‐1011 TEM DesJnado a análises de sistemas orgânicos/biológicos • Voltagem de aceleração máxima: 100 kV • Resolução para imagem de ponto: 0,45 nm • Resolução para imagem de linha: 0,20 nm • Faixa de magnificação: 50 X a 600.000 X • Estágio goniométrico com módulo de inclinação de ±20º • Difração de elétrons Responsáveis: Prof. Zenilda L. Bouzon, Eliana de Medeiros, Luciano Oliveira
Laboratório Central de Microscopia Eletrônica
JEM-‐2100 TEM DesJnado a análises de metais e cerâmicas • Voltagem de aceleração máxima: 200 kV • Magnificação : 2000X a 1.200.000X • Diâmetro mínimo de feixe: 1,5 nm • Estágio goniométrico com módulo de inclinação duplo de ±40º • Análise de raios-‐x (EDS): sistema de espectrometria por dispersão de energia • Difração de elétrons SAD • Difração com feixe convergente CBED • Exposição de negaJvos Responsáveis: Eduardo de Almeida Isoppo, J. Javier S. Acuña
Laboratório Central de Microscopia Eletrônica
JEOL JSM-‐6390LV Scanning Electron Microscope • Microscópio de varredura convencional com filamento de tungstênio • Voltagem de aceleração: 0.5 a 30kV • Magnificação 25x a 300000x • Resolução alta tensão: 3nm; baixa tensão: 4nm. • Modo baixo vácuo incluído– Permite observar amostras com excesso de água • Acomoda amostras de até 15 cm de diâmetro • Modo filmagem (arquivos .avi) • Análise de raios-‐x (EDS): sistema de espectrometria por dispersão de energia
Laboratório Central de Microscopia Eletrônica
JEOL JSM-‐6701F Scanning Electron Microscope • Catodo frio: Emissão de campo (FESEM) • Ultra alto vácuo • Alta resolução: 1nm(30kV)-‐ 2.2n (1.2kV) • Tensão de aceleração: 0.5 a 30kV • Magnificação 25x a 650000x Responsável: Renê Chagas, Deise Rebelo
Laboratório Central de Microscopia Eletrônica
Leica DMI6000 B Microscope • Confocal Scanner TCS SP5 acoplado • Laser de Diodo na linha UV 405 nm • Laser de Argônio nas linhas: 458, 476, 488, 496 e 514 nm • Laser de He-‐Ne nas linhas: 543, 594 e 633 nm Responsáveis: Renata Ozório, Eliana de Medeiros
Laboratório Central de Microscopia Eletrônica
Recursos para preparação de amostras: • Ultramicrótomo para tecidos biológicos • Politriz de alta e baixa velocidade • Dimple • Disc grinder • Polimento iônico (PIPS) • Cortador ultrassônico • Limpador ultrassônico com aquecimento • Lupa estereoscópica • Centrífuga • Recobridora de ouro (spuZering) • Chapa quente com controle de temperatura • Estufa e dessecador
Laboratório Central de Microscopia Eletrônica
• MCTI / PROPESQ-‐UFSC
